第36章 纳米光刻机光源技术 3yt.org（2/2）

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张伟忠这样说了，大家也不好说什么，只能硬着头皮继续加班。

办公室里，张伟忠打开电脑，看着米国制裁龙国的新闻，内心苦涩得说不出话。

打开围脖热点。

米国总统特没谱竟然在推特公开发文。

“没有米国的帮助，龙国永远造不出高端光刻机。

给他们图纸也造不出来。”

“华美公司无芯可用，手机业务陷入停滞。”

“国内陷入缺芯潮流，国产芯片的研发，该何去何从。”

看着一个个热点新闻，张伟忠狠狠往桌上拍了一巴掌，沉默不语。

米国佬简直欺人太甚，龙国迟早能够生产属于自己的高端芯片。

就在他准备关掉电脑的时候，突然，邮箱一闪一闪的的图标让他想起了之前孟伟业说的话，便顺手打开了邮箱。

是一个一份2GB大小的压缩包，在好奇心的驱使下，他将压缩包下载下来。

“0.5纳米 EUV光刻机技术光源解决方案？”

张伟忠嘴角露出一丝不屑。

还0.5纳米？

可笑至极。

自己在半导体领域耕耘二十年，什么顶尖技术自己不知道？

0.5纳米，已经超出了摩尔定律的极限，根本不可能。

电子隧穿问题是怎么解决的？

估计又是什么民科，找他来鉴定。

压缩包已经解压完成，张伟忠用wps打开。

“卧槽，这么多，还有目录。”

“看起来挺复杂的。”

他直接翻到中间，结果发现根本看不懂，于是翻到第一页，重新开始慢慢看。

“嗯，有点意思。”

“哟，这个也知道？”

现在民科都这么牛了吗？

他继续往下看。

“呵呵，想法很不错，可是实现起来难呀！”

“嗯？不对，这个方法？”

张伟忠像是发现了亮点，这个方法，他竟然没有反驳的理由。

“我去，还可以这样？”

随着一行一行阅读下去，他脸上的神色，从一开始的不屑，到后来的惊讶，到最后的震惊。

这份文档，竟然是真的。

真的解决0.5nm制程的光刻机光源技术。

这到底是国内哪个顶尖芯片研究所的杰作。